原子弹我们都造了,怎么还被一台光刻机卡脖子?
CPU和操作系统，我们要解决的也是有没有的问题，只要有了自己的CPU和操作系统，就可以不被卡脖子。至于质量水平和市场占有率，那需要慢慢来，急也没用。其他领域也是一样。我们有自己的发动机，有自己的照相机，各种关键设备我们都能造出来。但是，这仅限于科研军工系统，有些甚至仅仅是解决了有没有的问题。
设计、制造、测试、封装领先；上游设备光刻机被卡口。我国的设计、制造、测试、封装国内制造都处于领先，只是制造的上游设备光刻机被人卡脖子，所以芯片是一个产业链，即使其他方面再厉害，只要有一个环节被卡，就不行。
空客和通用公司曾经重金想购买我国一项技术，但被发明者直接拒绝，直言：“这点钱跟我们国家、民族利益比，不值一提”。后来这项技术直接被列入《中国禁止出口建设出口技术目录》，成为“卡外国脖子”技术，他们不能购买我们设备，只能跟我们合作。
半导体领域 芯片 我国芯片在制造工艺和量产方面相对落后，目前华为已能制造5纳米芯片，但国内其他公司大多仍停留在14纳米水平。相比之下，美日韩已开始量产2～3纳米芯片，甚至向1纳米突破。
低端和中端光刻机的封锁已经被解除了。两道封锁线都已经荡然无存了，美国和荷兰像是自动解除、提前解除封锁的，近年来让ASML连DUV中端光刻机都卖给我们国内企业那么多台了，是在我国光刻机企业还没有宣布国产中端光刻机下线消息的情况下。
中国的基础学科太薄弱了，被卡的项目太多了，怪不得川普天天叫嚣！光刻机 制造芯片的机器，其精度决定了芯片的上限。中国生产的最好的光刻机，加工精度是12纳米。目前，国外已经做到7纳米。芯片 低速的光芯片和电芯片已实现国产，但高速的仍全部依赖进口。
中芯国际与阿斯麦签订购买单,这能解决芯片短缺问题吗?
1、中芯国际与阿斯麦签订购买单，这可以暂时缓解我国芯片短缺的问题，但是不可以解决我国的芯片问题，我国芯片短缺问题还是需要我们自己来攻克。从2018年开始，美国就对我国的芯片行业做出一些限制。
2、第二：中芯国际需要依赖阿斯麦中芯国际虽然前不久拿下了14nm以及28nm的许可，但是我们的芯片困境依然没有解决，我们依然需要像ASML公司采购光刻机，我们依然需要依赖于美国的放水。所以中芯国际现在并没有摆脱限制，只能说美国暂时松手了。
3、加强供应链稳定性：与全球顶级光刻机制造商阿斯麦的合作，有助于中芯国际稳定供应链，确保关键设备的及时供应，降低因设备短缺导致的生产风险。中芯国际签大单 市场拓展：中芯国际与阿斯麦签订的大单，不仅体现了中芯国际在芯片制造领域的市场地位，也为其进一步拓展国内外市场提供了有力支撑。
中国芯片研究有什么了重大突破?华为是否迎来转机?
这一基地的建成将依靠其地理优势，成为华为新的芯片产业和通信设备的研发基地，进一步推动华为在高端技术领域的突破。 同时，华为国内两大研发基地的先后建设，也标志着其重心将从中国制造逐渐过渡到中国“智”造。随着高端人才的引进和研发实力的增强，华为有望在全球科技竞争中占据更加有利的地位。
华为芯片有突破。此前，华为曾表示，他们正在自主研发芯片，并希望解决芯片供应的问题。不过自主研发芯片需要庞大的研发团队和技术实力的支撑，而华为在这方面还需要加强。而最近，华为宣布完成了一项重要的突破，他们成功地完成了一款搭载自主研发的操作系统HarmonyOS的芯片。
说到国产芯片，很多人都会摇摇头。大家都知道，目前全球都在经历着“芯片荒”，而曾经扛起了国产芯片门面的华为海思麒麟芯片，却因为对方的流氓操作，无法实现芯片生产，被彻底牵着鼻子走。不过，近年来意识到芯片的重要性之后，行业也越来越重视国产芯片的发展，不断传来好消息，国产芯片有救了。
华为芯片在未来才会有新突破。总结。华为目前用面积换性能、用堆叠换性能，可以说已经是既定而非可能的未来解决方案了，同时，华为的投资将继续聚焦于建立一个可靠、可信的供应链，当然是国内的、自主的，以让芯片产品不仅能保证连续性，关键是能保证竞争力。显而易见，华为芯片在未来才会有新突破。
国产射频芯片厂商实力越强，突破越大，那么华为解决5G射频芯片问题的可能性也就越高。因此每当国内传来有关射频芯片取得突破的好消息时，大部分的人第一时间都会联想到华为，想要知道这些突破能给华为带来什么帮助。这也能理解，毕竟国外技术指望不上，只能靠国内了。
在世界上,哪几个国家能造成高端光刻机?为何高端光刻机的制造难度那么大...
荷兰的光刻机技术主要归功于ASML。ASML成立于1984年，由飞利浦与先进半导体材料国际（ASML）合资成立，总部位于荷兰的费尔德霍芬。1995年，ASML收购了飞利浦持有的股份，成为完全独立的公司。
光源问题 光刻机的核心在于光源，其精度要求极高。荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV）能够加工13纳米级别的线条，相当于人类头发丝直径的1/5000。EUV光源通过美国Cymer公司制造，利用二氧化碳激光轰击金属锡滴液产生EUV等离子体。整个过程中，每秒攻击5万个20微米大小的金属锡滴液，其精密程度可见一斑。
目前，有荷兰、日本和中国三个国家能够制造光刻机。荷兰的ASML公司占据了全球市场份额的80%，日本的代表企业是佳能和尼康，中国的代表企业是上海微电子。尽管我国目前只能制造出90纳米的光刻机，但已加大科研投入和人才培养，未来有望实现突破。
今天，很少有国家拥有原子弹，但高端光刻机比原子弹还稀少，到目前为止，只有两个国家拥有，即荷兰和日本。有人会问，这台光刻机是做什么的？光刻机是芯片制造的核心设备之一，芯片生产有光刻机，封装有光刻机，LED制造领域也有投影光刻机。
能够制造光刻机的国家有荷兰、日本和中国。光刻机的难度主要体现在以下几个方面：光源问题：光刻机需要使用极紫外线等高精度光源进行曝光，这种光源的获取和精确控制非常困难。例如，荷兰ASML公司的EUV光刻机需要从193纳米的短波紫外线多次反射获得15纳米的极紫外线。
