中国最大的光刻机生产厂家
光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，因此，世界上只有少数厂家掌握。光刻机，其实就是一种将图纸上的芯片电路设计通过类似照片冲印的技术印制到硅片上的机器。简单来说，就是在硅片上覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶，再用紫外光透过掩模照射硅片，被光线照射到的光刻胶会发生化学反应。
光刻胶板块龙头股票主要包括以下几家：南大光电：国内领先的光刻胶生产厂家，主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品的研产销。其ArF光刻胶及配套材料项目已建成，并投入使用ASML浸没式光刻机。
与德国、瑞典、美国等一些西方国家相比，我国的芯片制造以及超级精密的机械制造方面不具备什么优势，没有超级精密的仪器，自然就很难造出顶级的设备，无法造成顶级的芯片。最关键的是，这些超级精密的仪器根据《瓦森纳协定》对中国是禁运的。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，因此，世界上只有少数厂家掌握。
中芯国际光刻机 是国产产品。中芯国际光刻机 是用于芯片工艺中 光刻步骤的设备。由荷兰ASML公司制造 但核心部件 如光学元器件等 由国内厂家供应。因此，中芯国际光刻机 可以称为 具有“自主配套”的国产产品。市场表现良好 未来增加投资 应用于更广泛领域 满足市场需求。
中国目前做光刻机的主要有上海微电子装备有限公司、中子科技集团公司第四十五研究所国电、合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技、无锡影速半导体科技。其中，上海微电子装备有限公司已经量产的是90纳米，这是在中国最领先的技术。
华为光刻机技术突破解析
1、从5nm一下子掉到180nm，这个落差让很多人都接受不了。但需要知道的是，180nm才是国产光刻机技术的真实水平，就算不愿意承认，也必须得面对。如果连自身的不足之处都无法面对，那么何谈攻克技术难题？何谈突破？毫无疑问，180nm还处于比较落后的状态，这也是国产芯片迟迟无法崛起的主要原因。
2、黄芊芊还在潜心研究微纳电子技术，在中国集成电路领域，因为有了黄芊芊这样的“芯片女神”，才有望发光发热。并且在黄芊芊的研究下，对我国各大企业 探索 科技 进步，取得技术突破都是有重要意义的。
3、国产光刻机正向下一个技术节点寻求突破。产业链 光刻机产业链主要包括上游核心组件及配套设备、中游光刻机生产及下游光刻机应用三大环节。光刻机技术极为复杂，在所有半导体制造设备中技术含量最高。光刻机国产化 在华为被美国芯片限制之后，光刻机国产化为热门话题。
4、这也意味着“搭载HarmonyOS（鸿蒙）的手机”已经变成面向市场的正式产品.几乎就在鸿蒙系统发布的同一时间，华为已经开始大动作入局芯片领域的核心技术--光刻机。
正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏
国内的光刻机确实具备生产5纳米芯片的技术潜力，但需注意成本与良率问题。一直以来，国产芯片在先进工艺研发方面备受关注。由于ASML未将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业，国内芯片企业面临一定的技术挑战。然而，国内芯片制造企业并未因此止步，而是积极尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺。
一家名叫信阳的公司，来自上海，花费1亿元成功购买了三台ASML光刻机。据悉，上海申阳此次购买的光刻机均为ASML-1400型号。该模型实际上不是ASML目前最先进流程的代表，只能用于生产55纳米芯片。而且这三个光刻机也是二手的。另外3台ASML光刻机！目的不是为了生产芯片。
荷兰的阿斯麦公司是世界上最先进的光刻机制造商之一。自1984年成立以来，ASML已经成为了全球半导体产业的核心设备供应商，其生产的EUV光刻机是目前最先进的光刻设备，能够实现7纳米及以下的制程工艺。近年来，ASML更是率先研发出2nm光刻机，进一步巩固了其在全球光刻机市场的领先地位。
中芯国际，作为中国最大的半导体代工厂商之一，早在2018年就订购了一台荷兰ASML公司生产的7纳米EUV光刻机。尽管他们已经支付了订单，但由于美国的出口管制，这台光刻机至今未能交付。中芯国际不仅被美国列入了实体清单，限制与其业务往来，也面临了前所未有的挑战。
中国芯片技术的“瓶颈”是中国在芯片技术领域没有核心技术和自主研发能力，没有主导芯片从材料、设计到生产制备的全套技术中任何一个环节。
英特尔在研发65纳米工艺之时并没有忘记前瞻性的研究，例如euv深紫外光光刻机技术，为2010年后半导体芯片准备的三门晶体管技术等等，在后文中我们也会对这些内容作一定的介绍。65纳米工艺制造的70mbit容量sram芯片，面积只有110平方毫米。可以看到，现在正处于从90纳米向65纳米转换的关口。
